一、引言上世紀50年代以后，隨著離子注入、擴散、外延生長和光刻四種基本工藝的發明，半導體工藝逐漸發展起來。芯片被顆粒和金屬污染，容易導致短路或開路等失效，因此除了在整個生產過程中避免外部污染外，在制...
半導體設備是支撐電子行業發展的基石，也是半導體產業鏈上游環節市場空間最廣闊，戰略價值最重要的一環。從整體來看，中國大陸的半導體設備行業，同全球半導體設備行業一樣，享受著本土晶圓廠擴產，地方規劃重點...
近日，我公司又完成了一批設備順利通過調試并出廠發至使用方，承蒙信賴，CGB也不負重托，我們從材料、工藝、制造、設備運行全過程進行嚴格把控，嚴把設備質量關、嚴把出廠檢驗關，確保設備的可靠性、穩定性。客戶...
一、半導體清洗設備行業發展概況半導體制造過程中不可避免會產生一些顆粒、有機物、自然氧化層、金屬雜質等污染物，清洗機是指對晶圓表面進行無損傷清洗以去除雜質，獲得所需潔凈表面，為下一步工藝準備良好條件...
碳化硅襯底是新近發展的寬禁帶半導體的核心材料，碳化硅襯底主要用于微波電子、電力電子等領域，處于寬禁帶半導體產業鏈的前端，是前沿、基礎的核心關鍵材料。4H-SiC具有3.2（eV）的禁帶寬度，2.00飽和電子漂移速...
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