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晶圓旋轉干燥機是半導體制造中的關鍵設備，主要用于濕法清洗后的晶圓干燥。該設備集成了水噴淋清洗、氮氣吹掃和石英紅外燈管烘干功能，能夠高效去除晶圓表面的污染物和水分，確保晶圓干燥無殘留。設備兼容4、6、8、12英寸晶圓，適用于多種尺寸的晶圓處理，滿足半導體生產線的高潔凈度和高效能需求。