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主にSiCなどの化合物半導體ウエハ、Siウエハなどのベベル加工に用いられ、精密な砥石でウエハを研磨し、加工します。4”,6”,8”,12”ウエハウエハーに用います。

つの加工軸を持ち、単獨に制御でき、1軸で単獨に加工することも可能。単軸裝置と比べて、二軸裝置は加工効率を70%向上できる。