半自動シングルキャビティフォトマスク洗浄機(jī)は、フォトマスクの表面に殘るレジストの殘留物を効果的に除去し、浸漬、ブラシ洗浄、ACE/IPA洗浄、メガソニック洗浄を通じてマスク表面を清浄にします。
この裝置は、プロセスチャンバー、リフティングスキャニングスイングアームモジュール、ブラッシングスイングアームモジュール、液供給?排出システム、空気清浄?靜電気除去システム、排気システム、中央制御システムなどで構(gòu)成されています。プロセスチャンバーには、ブラシ洗浄、ACE洗浄、IPA洗浄、メガ洗浄、窒素吹付、窒素乾燥、遠(yuǎn)心スピンオフなどの機(jī)能を裝備することができます。
多様なサイズのフォトマスクに対応。
層狀キャビティ設(shè)計。
ドライイン?ドライアウトの処理モード。
薬液は再利用可能。
低薬液消費。
実験室のニーズに応える小型化設(shè)計。
| 対応プロセス? | Mask Clean |
| 対応サイズ | 4&6inch,6&8inch |
| 搭載方式 | オープンカセット |
媒質(zhì) | ACE/NMP/EKC/IPA |
| パーティクル | ≤30ea @0.2μm |
| 金屬イオン殘留量 | ≤1E10 atoms/cm2 |
| 破片発生確率 | ≤0.1‰ |
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