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主に半導體製造およびMEMSを対象にしています。半導體製造プロセスでは、リソグラフィーやエッチングなどの重要な工程の洗浄ステップに広く使用され、高いウェーハの清浄度要求を満たすことができます。

コンパクトな構造と限られた工場環境に適した省スペース設計。

ウェーハ洗浄プロセスでの接觸點が少なく、高いクリーンネスと製品の品質を実現します。また、さまざまなサイズのウェーハ処理に対応し、異なる生産ニーズに応えることができます。

高度な制御システムと自動化機能により、溫度、時間、薬液の精密な制御が可能となり、一貫した安定した洗浄結果が保証されます。